微流体专用光刻胶

rat404na

Futurrex 成立于1985年，是美国高端光刻胶及辅助化学品制造商。Futurrex产品以技术领先著称，从2000年至今年均增长率为33%。Futurrex主要客户有：Ti、国家半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm (高通)等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构首选产品。

耐高温/高分辨率负胶

光刻胶                 厚度
NR5-8000                  5.8µm - 100.0µm
制程小于120度（℃）时，列光刻胶易于在25度（℃）去除  
耐高温=180℃，具有非凡的纵横比。可做厚膜掩膜，用于离子刻蚀。


光刻胶                    厚度
NR21-20000P               18.0µm - 200µm  
可实现120µm  膜厚，6:1深宽比图案，适用于电镀湿法刻蚀




离子刻蚀光刻胶   可做掩膜、永久间隔材料
耐高温                     
光刻胶型号                    厚度范围
NR71-250P                            0.2µm - 0.6µm
NR71-1000P                          0.7µm - 2.1µm
NR71-1500P                          1.1µm - 3.1µm
NR71-3000P                          2.1µm - 6.3µm
NR71-6000P                          5.0µm - 12.2µm
NR5-8000                             5.8µm - 100µm
耐温150度（℃）.
光刻胶在离子刻蚀方面有很好的选择性，在一些条件下优于常用的正胶25%~30%.对于小于120度（℃）的制程。

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黄黄

供应led制造用光刻胶--思的（CSSID）公司
思的公司是美国Futurrex公司的中国代表处，专业销售Futurrex公司的系列产品。Futurrex公司是国际知名的化学品供应商,公司始建于1985年，全球范围内供应光刻胶 、去胶液、显影液等产品。Futurrex公司的光刻胶具有高灵敏度，高对比度，高分辨率，易于处理，高纯度等众多优点，能够满足不同的膜厚需求。广泛用于LED、LCD、太阳能、IC等芯片加工方面。Futurrex公司有着广泛的客户群：德州仪器（TI），意法半导体（ST），3M，杜邦，LG，夏普，HP等。客户青睐的Futurrex产品有:NR9-3000PR1-4000A;NR9-8000P;NR5-8000; PR1-2000A; PR1-500A; NR4-8000P; PC3-6000; IC1-200; NR-20000P; PC4-10000;NR1-300PY; NR1-6000PY等!欢迎您来电垂询
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